[发明专利]制造微芯片的方法和设备无效
| 申请号： | 200480037149.1 | 申请日： | 2004-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1894631A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 沙哈比·雅罗米;迪特里克·维尼克;莱昂纳德斯·格拉尔杜斯·伯纳德斯·布雷梅尔 | 申请（专利权）人： | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/47 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李剑 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 通过使用浸入式光刻来制造微芯片的方法，其中浸液包含添加剂，以使该浸液与不含该添加剂的浸液相比折射率升高。本方法中的曝光光线提高了分辨率，从而获得具有增大集成密度的微芯片。本发明还涉及浸液以及包含该浸液的浸入式光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 芯片 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.通过使用浸入式光刻来制造微芯片的方法，其特征在于：浸液包含添加剂，以使所述浸液的折射率高于不含所述添加剂的浸液的折射率。
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