[发明专利]用等离子体振子辅助化学反应形成材料膜的方法和系统无效
申请号: | 200480037309.2 | 申请日: | 2004-12-14 |
公开(公告)号: | CN1894438A | 公开(公告)日: | 2007-01-10 |
发明(设计)人: | 大卫·A·博伊德;马克·布罗恩格斯马;莱斯利·格林葛德 | 申请(专利权)人: | 加州理工学院 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/48;C23C16/52;C23C18/14 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 肖善强 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用化学气相沉积形成材料膜的方法。所述方法包括提供包含至少一种金属纳米结构图案的衬底,所述金属纳米结构由选定材料制成。所述方法包括确定所述纳米结构的所述选定材料的等离子体振子共振频率,以及用具有预定频率的电磁源在所述等离子体振子共振频率下激发部分所述选定材料以使所述选定材料的热能增加。所述方法包括在包含在所述等离子体振子共振频率下激发的所述选定材料的所述衬底上面施加一种或更多种化学前体,以及在至少所述选定材料的所述部分上面选择性沉积膜。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 辅助 化学反应 形成 材料 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.用等离子体振子辅助化学气相沉积形成材料膜的方法,所述方法包括:提供包括表面区域的衬底;在部分所述表面区域上面形成一种或更多种粒子,所述一种或更多种粒子具有热特性;在所述一种或更多种粒子的邻近区域内施加反应性物质;用电磁辐射照射所述一种或更多种粒子,所述电磁辐射具有预选频率;通过至少所述具有所述预选频率的电磁辐射的影响将所述具有热特性的一种或更多种粒子的温度升至至少选定温度;通过至少提高所述一种或更多种粒子的温度而引起所述反应性物质的化学反应,从而引发由所述反应性物质形成材料膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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