[发明专利]用于扁平工件的湿化学或电解处理的处理设备有效
| 申请号： | 200480037689.X | 申请日： | 2004-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN1894444A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 乌丰·豪夫;亨利·孔策;费迪南德·维纳 | 申请（专利权）人： | 埃托特克德国有限公司 |
| 主分类号： | C25D17/28 | 分类号： | C25D17/28 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王琼 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于扁平工件(1)的湿化学或电解处理的处理设备，所述扁平工件例如金属箔、印刷电路箔或印刷电路板，其中工件在传送路径上通过传送构件(6)传送。处理设备包括具有凹部的承载元件和至少一个模块系统，所述承载元件平行于传送路径定向，模块系统用于承载传送构件，模块系统包括优选成对设置的插入元件(14，26)，所述至少一个模块系统被构造成使得它与承载元件的凹部对齐，并且优选可滑动到所述凹部中。处理设备优选在水平传送线中使用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 扁平 工件 化学 电解 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于扁平工件的湿化学或电解处理的处理设备，包括用于在传送路径上传送所述设备中的工件的传送构件，其特征在于，所述处理设备还包括：a)具有凹部(21)的承载元件(4，5)，所述承载元件定向成平行于传送路径，和b)至少一个模块系统，用于承载传送构件(6，6’，6”，7)，所述模块系统包括插入元件(13，14，26)，所述插入元件(13，14，26)被构造成使得它们配合在承载元件(13，14，26)的凹部(21)中。
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