[发明专利]去除化学氧化物的系统的操作方法

摘要

提供了一种用于化学氧化物去除(COR)的处理系统和方法，其中处理系统包括第一处理室和第二处理室，其中第一和第二处理室彼此相互耦合。第一处理室包括化学处理室，其提供被控温的室以及用于支持进行化学处理的衬底的被单独控温的衬底支撑物。衬底在包括表面温度和气体压强的被控条件下，暴露给例如HF/NH₃的气体化学物质。第二处理室包括提供了被控温的室的热处理室，其与化学处理室热绝缘。热处理室提供了用于控制衬底温度的衬底支撑物，以对衬底上经化学处理过的表面进行热处理。

主权项

1.一种用于通过化学氧化物去除来处理衬底的方法，包括：确定对于所述衬底的希望状态，其中输出状态包括至少一个目标关键尺寸；接收对于所述衬底的处理前测量数据，其中所述处理前测量数据定义晶片的输入状态并且包括处理前关键尺寸数据；通过比较所述输入状态和所述希望状态确定处理配方；以及使用所述处理配方，通过化学改变所述衬底上被暴露的表层，然后对经化学改变的表层进行热处理，来处理所述衬底。