[发明专利]用于成像器的双联电容器结构及其形成方法

摘要

公开了包含不同的像素内电容器和外围电容器的CMOS和CCD成像器件及其形成方法。用于外围电路的电容器具有与用于像素本身的电容器不同的要求。可提供包含两个介质层的双叠层电容器以实现低泄漏和高电容。可设置单掩蔽步骤以使一个区域具有双介质电容器而第二个区域具有单介质电容器。还可在一个区域中提供与另一个区域不同的介质，其中极间绝缘体包括两个区域中的单介质。

主权项

1.一种用于形成具有不同的像素内电容器和外围电容器的CMOS成像器件的方法，包括下列步骤：形成至少一个光传感器；在像素区域和外围区域的所述衬底上方形成第一电极层；在所述第一电极层上方形成第一介质层；在所述第一介质层上方形成第二介质层；以及在所述第二介质层上方形成第二电极层。