[发明专利]用于制造一种由至少两种组分组成的功能层的方法和设备无效
| 申请号： | 200480038309.4 | 申请日： | 2004-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1898407A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | 马丁·迪南·比杰克;马里纳斯·弗朗西斯库斯·约翰尼斯·埃弗斯;弗朗西斯库斯·科尼利厄斯·丁斯 | 申请（专利权）人： | OTB集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/30;C23C16/54;C23C16/513 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘莉婕;杨本良 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于制造功能层的方法，其中将基底引入处理室中，由至少一个等离子体源例如等离子体级联源(3)产生至少一个等离子体，将至少一种沉积材料在等离子体(P)的影响下沉积到基底(1)上，同时将至少一种第二材料(6)借助于第二沉积工序涂覆到基底上。本发明进一步提供一种设备，其设置有至少一个等离子体源，例如等离子体级联源，以产生至少一个等离子体，其中所述设备包括用于将沉积材料引导进入每个等离子体中的装置，其中所述设备设置有第二沉积源(6)，第二沉积源被设置为与等离子体源同时地将至少一种第二沉积材料沉积到基底上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 一种 至少 组分 组成 功能 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造功能层的方法，其中将基底(1；101)引入处理室(2；102)中，由至少一个等离子体源(3；103)例如等离子体级联源产生至少一个等离子体(P)，将至少一种沉积材料(A)在等离子体(P)的影响下沉积到基底(1；101)上，同时将借助于第二沉积工序至少一种第二材料(B)涂覆到基底上，并且该功能层不具有催化功能。
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