[发明专利]光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200480038343.1 | 申请日： | 2004-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1898606A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | H·范桑坦;A·Y·科勒斯奈彻科 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：照明系统，其构造成可提供辐射光束；支撑结构，其构造成可固定图案形成装置，所述图案形成装置构造成可在所述光束的横截面上施加图案；衬底台，其构造成可固定衬底；投影系统，其构造成可将图案化光束投射到所述衬底的目标部分上；液体供给系统，其构造成可将浸液提供到所述衬底和所述投影系统之间的空间中，所述液体供给系统包括沿着所述空间的至少一部分边界延伸的隔离件，并且所述隔离件位于相对于衬底台上的物件的位置使得由所述隔离件和所述物件之间的所述浸液产生的任何毛细压力不会大到足以将所述浸液限制在所述空间中，其中在所述隔离件和所述物件之间没有设置密封。
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