[发明专利]硅氧烷组合物及其在控制印刷或模塑图案释放或转印中的用途及其转印方法

摘要

本发明涉及一种硅氧烷组合物，其可用于控制当含组合物的双层或多层结构体作为独立层和夹在其间的不同材料的图案分离时发生释放处的界面。本发明进一步涉及利用这些组合物控制在基片上沉积的图案的转印或释放的方法。

主权项

1.一种硅氧烷涂料组合物，其包含：(I)含通过下述方法获得的硅氧烷组合物(X)的第一涂布层，所述方法包括使下述物质反应：(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自：(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(vii)含R22SiO2/2单元、R23SiO1/2单元和SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中SiO2/2单元与结合的R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的摩尔比为0.005-0.125，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自：(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；和(II)与涂布层(I)接触的第二涂布层，该第二涂布层包括通过下述方法获得的硅氧烷组合物(Y)，所述方法包括使下述物质反应：(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机聚硅氧烷化合物选自：(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自：(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在组合物(Y)中高于在组合物(X)中，和组合物(Y)的表面能低于组合物(X)。