[发明专利]光刻装置,器件制造方法以及所制的器件无效
| 申请号： | 200480039174.3 | 申请日： | 2004-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1902551A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | M·克鲁恩;M·C·范比克;P·德克森;R·库特;C·M·奥文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种光刻装置。该装置包括提供辐射光束的辐射系统，和支撑图案形成结构的支撑结构。图案形成结构构造成可根据所需的图案图案化辐射光束。该装置还包括支撑衬底的衬底支撑，和将图案化的光束投影到衬底的目标部分的投影系统。该投影系统包括具有光束入口区域的光学元件和具有光束出口区域的光学元件，图案化的光束穿过其每个区域。该装置另外包括与上面设有多个核化地点的投影系统结合的核形表面。该表面设置在远离光束入口区域和光束出口区域中的至少一个。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置包括：提供辐射光束的辐射系统；支撑图案形成结构的支撑结构，图案形成结构构造成可根据所需的图案图案化辐射光束；支撑衬底的衬底支撑；将图案化的光束投影到衬底的目标部分上的投影系统，所述投影系统包括具有光束入口区域的光学元件和具有光束出口区域的光学元件，所述图案化的光束穿过其每个区域；以及与上面设有多个核化地点的所述投影系统结合的核形表面，所述表面被设置到远离所述光束入口区域和所述光束出口区域中的至少一个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480039174.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
