[发明专利]用于EUV负性光致抗蚀剂的低排气和非－交联聚合物系列无效
| 申请号： | 200480039655.4 | 申请日： | 2004-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1902549A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | W·岳;H·曹;马尼什·钱德豪克 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 | 代理人： | 严慎 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述了不基于交联化学反应的化学放大的负性光致抗蚀剂的一系列结构。所述光致抗蚀剂可以包括：与环烯烃共聚合的第一芳族结构，其中所述环烯烃用二醇官能化。所述光致抗蚀剂还可以包括光酸产生剂(PAG)。当所述负性光致抗蚀剂的至少一部分被曝光(EUV或UV辐射)时，PAG释放酸，所述酸与官能化的二醇反应以重排成酮或醛。然后，新的酮或醛在显影溶液中较少溶解，导致负性光致抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 负性光致抗蚀剂 排气 交联 聚合物 系列 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂，包括：用二醇官能化的环烯烃。
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