[发明专利]转印模及其制造方法和精细结构的制造方法无效
申请号: | 200480040019.3 | 申请日: | 2004-12-22 |
公开(公告)号: | CN1902035A | 公开(公告)日: | 2007-01-24 |
发明(设计)人: | 横山周史;阳田彰;菊池宽 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B29C33/38 | 分类号: | B29C33/38;B29C33/42;B29C33/50;H01J9/24;B29C33/40 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及具有转印图案层的转印模,该转印图案层具有含有聚合物材料的、具有阳纹突出图案的表面,并且被基底层支承,该基底层含有与该转印图案层不同的材料。本发明还涉及转印模的正相复制品和反相复制品的制造方法,以及由转印模的模制复制品得到精细结构(例如等离子体障肋)的方法。 | ||
搜索关键词: | 印模 及其 制造 方法 精细结构 | ||
【主权项】:
1.一种转印模,该转印模包括:转印图案层,该转印图案层具有包含聚合物材料的、具有阳纹突出图案的表面,并由基底层支承,所述基底层包含与所述转印图案层不同的材料。
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