[发明专利]用于场致发光装置中的材料有效

专利信息
申请号: 200480040162.2 申请日: 2004-12-27
公开(公告)号: CN1910260A 公开(公告)日: 2007-02-07
发明(设计)人: 支志明;岑晓彤 申请(专利权)人: 香港大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;H05B33/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李炳爱
地址: 中国香港*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 含有一种或多种环硼氮烷环的材料被用作场致发光装置中的材料。这些化合物具有式I所代表的分子结构,其中R1-R6独立地是一种金属;任选取代的环硼氮烷环的整体或部分;氢;卤素;羟基;任选取代的烷基、环烷基、芳基、酰基、烷氧基、酰氧基、氨基、酰基氨基、芳烷基、氰基、羧基、硫基、乙烯基、苯乙烯基、氨基羰基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、苯氧基羰基、或烷氧基羰基;以及公认的给体和受体基团。这些化合物具有高的热稳定性以及高的空穴和电子迁移率。
搜索关键词: 用于 发光 装置 中的 材料
【主权项】:
1.一种场致发光装置,它包括夹在电极之间的场致发光材料,其中这种场致发光材料含有至少一种用下式I代表的含环硼氮烷的本体:其中R1-R6独立地选自金属;任选取代的环硼氮烷环或它的一部分;氢;卤素;羟基;未取代或取代的烷基、环烷基、芳基、酰基、烷氧基、酰氧基、氨基、酰基氨基、芳烷基、氰基、羧基、硫基、乙烯基、苯乙烯基、氨基羰基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、苯氧基羰基和烷氧羰基,上述基团带有的取代基是选自金属、氢、卤素、羟基、给体基团或受体基团;并且其中这些取代基可以和它们在其上取代的基团一起形成一个环。
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