[发明专利]微光学安全及影像表示系统有效
申请号: | 200480040733.2 | 申请日: | 2004-11-22 |
公开(公告)号: | CN1906547A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | R·A·斯蒂恩布利克;M·J·胡尔特;G·R·乔丹 | 申请(专利权)人: | 纳米发明公司 |
主分类号: | G03H1/00 | 分类号: | G03H1/00;G02B13/18;G02B5/12;G02B3/10;G02B27/08;G01B15/02;G01N23/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;王勇 |
地址: | 美国乔*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种膜材料,使用正规二维阵列的非圆柱透镜以放大称为图标的微影像、以经由多个个别的透镜/图标影像系统的联合作用而形成合成放大影像。合成放大微光学系统包含一个或更多光学间隔器(5)、微影像、及影像图标聚焦元件(1)的周期平面阵列,微影像由复数个影像图标(4)的周期平面阵列所形成,该周期平面阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴以及设于光学间隔器(5)上或相邻于光学间隔器(5)。 | ||
搜索关键词: | 微光 安全 影像 表示 系统 | ||
【主权项】:
1.一种合成放大微光学系统。包括:(a)一个或更多光学间隔器;(b)微影像,包括具有复数个影像图标的周期平面阵列,该阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴,且设于该光学间隔器上或接邻于该光学间隔器;及(c)影像图标聚焦元件的周期平面阵列,该阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴,该对称轴与该微影像平面阵列的对称轴是相同的平面轴,每一该聚焦元件具有小于50微米的有效直径以及与影像图标相关连并在该相关连的影像图标的宽度上提供放大的视场,以致于该相关连的影像图标的周界边缘不会掉至视野之外。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳米发明公司,未经纳米发明公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480040733.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于减少扭矩转向的装置和方法
- 下一篇:扶梯或移动通道的基底