[发明专利]用于确定部件的残留污染的化学物质的方法和装置有效
| 申请号： | 200480041005.3 | 申请日： | 2004-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN1906620A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 保拉·卡拉波瑟;安德杰·米托维克 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G06F19/00 | 分类号： | G06F19/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于保存半导体处理工具内的易损部件的化学暴露的电子监视设备。该监视设备包括易损部件专用的存储了易损部件的化学暴露的历史的存储器单元、与存储器单元通信的处理器以及向存储器单元和处理器提供功率的电源电路。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 部件 残留 污染 化学物质 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于保存半导体处理工具内的易损部件的化学暴露的电子监视设备，包括：所述易损部件专用的存储器单元，其被配置用于存储所述易损部件的所述化学暴露的历史；连接到所述存储器单元的处理器，其被配置用于与所述存储器单元通信以存储所述历史；以及连接到所述存储器单元和所述处理器的电源电路，其被配置用于向所述存储器单元和所述处理器传输功率。
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