[发明专利]溅射靶和光信息记录介质及其制造方法有效
申请号: | 200480041752.7 | 申请日: | 2004-07-29 |
公开(公告)号: | CN1918318A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 高见英生;矢作政隆 | 申请(专利权)人: | 日矿金属株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/457;G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 樊卫民;郭国清 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种溅射靶,其特征在于,由向以SnO2为主要成分的In2O3-ZnO-SnO2类复合氧化物中添加Ta、Y中的任何一种或两种元素的氧化物所得的材料组成。本发明涉及一种光信息记录介质用薄膜(特别是用作保护膜)及其制造方法和适用于这些的溅射靶,该光信息记录介质用薄膜的非晶态性稳定,成膜速度快,与记录层的密合性、机械特性优良,且透过率高,此外,由于它由非硫化物类构成,不容易使相邻的反射层、记录层发生老化,由此,本发明的目的在于,提高光信息记录介质的特性及大幅度改善其生产率。 | ||
搜索关键词: | 溅射 信息 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种溅射靶,其特征在于,由向以SnO2为主要成分的In2O3-ZnO-SnO2类复合氧化物中添加Ta、Y中的任何一种或两种元素的氧化物所得的材料组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日矿金属株式会社,未经日矿金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480041752.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:α化发芽糙米膨化粉制备方法
- 下一篇:自充电式多功能制冷热器
- 同类专利
- 专利分类
- 信息记录介质、信息记录方法、信息记录设备、信息再现方法和信息再现设备
- 信息记录装置、信息记录方法、信息记录介质、信息复制装置和信息复制方法
- 信息记录装置、信息再现装置、信息记录方法、信息再现方法、信息记录程序、信息再现程序、以及信息记录介质
- 信息记录装置、信息再现装置、信息记录方法、信息再现方法、信息记录程序、信息再现程序、以及信息记录介质
- 信息记录设备、信息重放设备、信息记录方法、信息重放方法、以及信息记录介质
- 信息存储介质、信息记录方法、信息重放方法、信息记录设备、以及信息重放设备
- 信息存储介质、信息记录方法、信息回放方法、信息记录设备和信息回放设备
- 信息记录介质、信息记录方法、信息记录装置、信息再现方法和信息再现装置
- 信息终端,信息终端的信息呈现方法和信息呈现程序
- 信息创建、信息发送方法及信息创建、信息发送装置