[发明专利]等离子体处理方法及其装置无效
申请号: | 200480041821.4 | 申请日: | 2004-08-30 |
公开(公告)号: | CN1918950A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 佐伯登 | 申请(专利权)人: | 巴尔工业公司 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;C08J7/00;B01J19/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 曲瑞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种等离子体处理方法及其装置,能够在扩大激发核对于被处理物表面的照射量以及照射面积的同时,在表面整个区域均匀地照射,而且,还能够抑制有效激发核的损失以谋求显著提高处理性能和处理效率。在相互对置的放电电极(4)之间施加脉冲电压以使得在这些放电电极的尖端部分之间发生电晕放电,将包含通过该电晕放电所生成的等离子体的激发核对被处理物的表面照射来进行处理。构成如下:准备多个将第1电极(11)和第2电极相对配置的放电单元(13),并在将变压器(15)的次级侧端子的一方分别连接到多个放电单元(13)中的第1电极(11)的同时,将变压器(15)的次级侧端子的另一方通过整流器连接到多个放电单元(13)中的第2电极(12),由此就使得在多个放电单元(13)中交替发生电晕放电。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理方法,在相互对置的放电电极(4)之间施加脉冲电压以使得在这些放电电极(4)的尖端部分之间发生电晕放电,并对被处理物的表面照射包含通过该电晕放电而生成的等离子体的激发核来进行处理,该等离子体处理方法的特征在于,构成为:将变压器(15)的次级侧输出的一方进行分支并向不同的放电单元(13)的一方放电电极(4)供电,同时将变压器(15)的次级侧输出的另一方通过整流器(19)(20)分别向不同的放电单元13的另一方放电电极(4)供电,由此在各放电单元(13)中使电晕放电在放电电极(4)之间交替发生。
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