[发明专利]开发Ret调节剂的化合物和方法

摘要

描述了对Ret具有活性的化合物，以及使用此类化合物的方法。也描述了使用X射线晶体分析法测定的Ret替代物的晶体结构。此类Ret替代物晶体的使用和结构信息，例如，可以被用于鉴定分子支架和用于开发结合并调节Ret的配体，以及基于已知配体鉴定改进的配体。

主权项

1.一种化合物，其具有式I的化学结构，即 式I 其中，参考式I： R¹和R⁵独立为氢、卤、羟基、任选取代的烷氧基、任选取代的硫代烷氧基、任选取代 的低碳烷基(例如，三氟甲基)、任选取代的低碳链烯基、任选取代的低碳炔基、任选取代的 环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂芳基、 任选取代的杂芳烷基、-C(X)NR¹⁶R¹⁷、-C(X)R²⁰或-NR²²R²³； R²、R³和R⁴独立为氢、卤、羟基、任选取代的烷氧基、任选取代的硫代烷氧基、任选 取代的低碳烷基(例如，三氟甲基)、任选取代的低碳链烯基、任选取代的低碳炔基、任选取 代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂芳 基或任选取代的杂芳烷基、-C(X)R²⁰、C(X)NR¹⁶R¹⁷、S(O)₂NR¹⁶R¹⁷、-NR²²R²³或-S(O)_nR²¹； R¹⁶和R¹⁷独立为氢、任选取代的低碳烷基、任选取代的低碳链烯基、任选取代的低碳 炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任 选取代的杂芳基、任选取代的杂芳烷基，或R¹⁶和R¹⁷一起形成5-7元碳环或杂环； R²⁰为羟基、任选取代的低碳烷氧基、任选取代的胺、任选取代的低碳烷基、任选取代 的低碳链烯基、任选取代的低碳炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代 的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂芳基或任选取代的杂芳烷基； R²¹为氢、任选取代的低碳烷基、任选取代的胺、任选取代的低碳链烯基、任选取代的 低碳炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、 任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳烷基； R²²和R²³独立为氢、任选取代的低碳烷基、任选取代的低碳链烯基、任选取代的低碳 炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任 选取代的杂芳基、任选取代的杂芳烷基、-C(X)R²⁰、C(X)NR¹⁶R¹⁷或-S(O)₂R²¹； R²⁴是任选取代的低碳烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂芳基 或任选取代的杂芳烷基； w、y和z独立为O、S、N或CR²； q为N或C； X＝O或S；和 N＝0、1或2。