[发明专利]用于制备聚合物凸起结构的方法无效
| 申请号： | 200480041958.X | 申请日： | 2004-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN1930526A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 迪克·布尔;科尼利厄斯·威廉默斯·玛丽亚·巴司蒂安森;卡洛斯·桑切斯 | 申请（专利权）人： | 斯蒂茨丁荷兰聚合物学会 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强 |
| 地址： | 荷兰爱*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过电磁辐射制备聚合物凸起结构的方法。在所述方法中，使用一种降低经涂敷衬底的界面张力的化合物。结果，表面的纵横比以及曲率提高了，因此，有益于光学组件和复制用途。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 聚合物 凸起 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.用于制备聚合物凸起结构的方法，所述方法包括以下步骤：a)将衬底用包括一种或更多种辐射敏感成分的涂料涂敷，b)将所述经涂敷的衬底用具有周期或无规辐射强度图案的电磁辐射局部处理，形成潜影；c)将所得经涂敷的衬底聚合和/或交联，其中，在步骤c)中，存在降低所述经涂敷衬底的界面张力的化合物Cs。
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