[发明专利]高完整性溅射靶材以及其批量制造方法无效
| 申请号： | 200480041991.2 | 申请日： | 2004-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1985021A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托弗·A·米卡卢克;路易斯·E·休伯;P·托德·亚历山大 | 申请（专利权）人： | 卡伯特公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22F1/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种制造金属板和溅射靶的方法。此外，进一步公开了由本发明方法制得的产品。本发明优选提供一种在金属产品表面具有减少的或最少纹路的产品，该产品具有许多优点。 | ||
| 搜索关键词： | 完整性 溅射 及其 批量 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造溅射靶的方法，包括：提供含有至少一种金属的板坯；第一轧制所述板坯以形成中间板，其中所述第一轧制包括多个轧制道次；将所述中间板分割成多个子批次板；和第二轧制至少一个所述子批次板以形成金属板，其中所述第二轧制包括多个轧制道次，且其中所述第二轧制的每个所述轧制道次给予约0.2或更大的真实应变压下量。
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