[发明专利]超亲水性Ti-O-C基纳米膜及其制备方法有效
申请号: | 200480043241.9 | 申请日: | 2004-12-30 |
公开(公告)号: | CN1965103A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 郑永万;田贤佑;郑昌日 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/30 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘慧;杨青 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及超亲水性Ti-O-C基纳米膜,其具有改进的沉积厚度以及出色的沉积均匀性,其通过在均一比例下混合Ti前体和低沸点的高挥发性液体而制成。催化剂加速Ti前体的汽化并使所述Ti前体易于被注入到反应室中,因此改进了等离子体聚合效率。 | ||
搜索关键词: | 亲水性 ti 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.超亲水性Ti-O-C基纳米膜的制备方法,其包括:将表面待处理的基材放置在真空状态下的反应室中,在所述反应室中安装有至少一个电极;向所述反应室中引入Ti前体气体、选自空气或氧气的反应气体,以及作为Ti沉积促进剂的低沸点挥发性催化剂;向电极施加高电压并因此将引入的气体变为等离子体状态;和在所述基材的至少一个表面上形成Ti-O-C基纳米膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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