[发明专利]有机EL器件的制造方法以及有机EL器件制造装置的清洗方法有效
| 申请号： | 200480043619.5 | 申请日： | 2004-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1994022A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 高桥夏木;逆瀬川浩一;五十岚武;西之坊泰树;大友政彦;入泽修;山田和男 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/14;C23C14/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种方法，通过确实地避免当例如在其上形成有阳极的衬底的表面上形成有机层时由于有机物等引起的不利影响而稳定地制造高质量有机EL器件。解决方法的特征在于用臭氧气体清洗装配有用于例如在其上形成有阳极的衬底的表面上形成有机层的有机膜形成室的有机EL器件制造装置的内部，然后形成有机层。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 el 器件 制造 方法 以及 装置 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种有机EL器件的制造方法，其特征在于，用臭氧气体清洗装配有用于在衬底的表面上形成有机层的有机膜形成室的有机EL器件制造装置的内部，然后形成有机层。
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