[发明专利]用于在羧酸合成中从氧化剂清除流中除去杂质的萃取方法有效
| 申请号： | 200480044048.7 | 申请日： | 2004-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101048361A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 林鑫;M·德弗里德 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼化学公司 |
| 主分类号： | C07C51/42 | 分类号： | C07C51/42;C07C63/26;C07C51/47;C07C51/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张轶东;赵苏林 |
| 地址： | 美国田*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种涉及从羧酸、通常是对苯二甲酸的合成中产生的氧化剂清除流中回收金属催化剂的方法，该方法包括将洗涤溶液加入高温熔融的分散体中以回收金属催化剂并然后使如此形成的含水混合物或净化的含水混合物进行单级萃取以除去有机杂质，来产生含有金属催化剂的萃取流和萃余流。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 羧酸 合成 氧化剂 清除 除去 杂质 萃取 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：(a)使含有羧酸、金属催化剂、杂质、水和溶剂的氧化剂清除流在第一蒸发区进行蒸发以产生蒸汽流和浓缩的清洗浆；以及(b)使所述浓缩的清洗浆在第二蒸发区进行蒸发以产生富含溶剂的流和高温熔融的分散体；其中从所述步骤(a)和步骤(b)的合并的氧化剂清除流中除去大约95wt％-99wt％的所述溶剂和水；并且其中所述第二蒸发区包括在大约150℃-200℃温度下操作的蒸发器；(c)在混合区将洗涤溶液与所述高温熔融的分散体混合以形成含水混合物；(d)在萃取区将萃取溶剂加入所述含水混合物以形成萃取流和萃余流；以及(e)在分离区将所述萃取流和所述富含溶剂的流分离以形成高沸点的有机杂质流。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼化学公司，未经伊斯曼化学公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480044048.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
