[发明专利]改变光谱范围电磁辐射场、尤其是激光辐射场的装置和方法无效
| 申请号： | 200480044779.1 | 申请日： | 2004-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101107544A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 德克·豪斯奇尔德;阿莱克塞·米凯洛夫 | 申请（专利权）人： | 翰兹－利索兹切科专利管理有限公司及两合公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于改变激光辐射场强度分布的装置，它包括具有不同折射率(n2，n3)并具有两个相对放置、相互对应的光学功能分界面(5，6)的两个基片(3，4)，所述分界面至少部分是弯曲的。要被改变的激光辐射场可先后穿过这些光学功能分界面(5，6)，其中第一和第二基片(3，4)的折射率(n2，n3)之差(Δn)小于0.1，并且第一光学功能分界面(5)与第二光学功能分界面(6)之间的空间(9)被如此设计，使得激光射线在从第一基片(3)到第二基片(4)传播时主要只经历一个基于第一和第二基片(3，4)的折射率(n2，n3)之差(Δn)的折射。 | ||
| 搜索关键词： | 改变 光谱 范围 电磁辐射 尤其是 激光 辐射 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于改变光谱范围电磁辐射场、尤其是激光辐射场的装置，其特征在于，所述装置包括：-具有第一折射率(n2)和至少部分弯曲的第一光学功能分界面(5)的第一基片(3)，其中要被改变的电磁辐射场可至少部分地穿过第一光学功能分界面(5)；-具有第二折射率(n3)和至少部分弯曲的第二光学功能分界面(6)的第二基片(4)，其中要被改变的电磁辐射场在穿过第一光学功能分界面(5)后可至少部分地穿过第二光学功能分界面(6)；-其中第一和第二基片(3，4)的折射率之差(Δn)小于第一和第二基片(3，4)的各自折射率(n2，n3)与空气的折射率(n1)之间的差；-其中第一和第二光学功能分界面(5，6)被设置在第一和第二基片(3，4)的彼此相对的侧面上；-其中第一和第二光学功能分界面(5，6)的弯曲至少以分段方式相互对应；以及-其中在第一光学功能分界面(5)与第二光学功能分界面(6)之间的中间空间(9)被如此设计，使得电磁辐射场在从第一基片(3)到第二基片(4)、穿过第一和第二光学功能分界面(5，6)以及位于它们之间的中间空间(9)传播时主要经历一个基于一个或多个折射率差的折射，这些折射率差小于或等于第一和第二基片(3，4)的折射率(n2，n3)之差(Δn)。
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