[发明专利]辐射损伤稳定性显著改善的玻璃及该种玻璃的生产方法和用途有效
| 申请号： | 200510000066.1 | 申请日： | 2005-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1636905A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 西尔克·沃尔夫;乌特·韦尔费尔 | 申请（专利权）人： | 史考特公司 |
| 主分类号： | C03C3/07 | 分类号： | C03C3/07 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方;刘国伟 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明揭示一种玻璃，其具有较高内部透射性并具有较低的辐射所致物理收缩倾向和较低的曝光过度倾向，其包括：18－31％(重量计)SiO2，0－7％(重量计)Na2O3，0－7％(重量计)K2O，65－84％(重量计)PbO，0.001－1％(重量计)As2O3+As2O5；其特征在于含有：Sb2O30—5000ppm，TiO20—500ppm，CuO 0—100ppm，F0—1000ppm；∑(As2O3，As2O5，Sb2O3，F)≥20ppm及As(III)/As(V)的比例至少为0.5。该种玻璃适合用作光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射损伤 稳定性 显著 改善 玻璃 生产 方法 用途 | ||
【主权项】：
1、一种具有较低辐射所致物理收缩倾向和较低曝光过度倾向的高含铅玻璃，其特征在于含有：Sb2O30至5000ppmTiO20至500ppmCuO0至100ppmF0至1000ppm其中：∑(As2O3，As2O5，Sb2O3，F)≥20ppm及As(III)/As(V)的比例至少为0.5。
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