[发明专利]对位机台有效
| 申请号： | 200510002344.7 | 申请日： | 2005-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN1808527A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 王健发;胡泉冬;翁崇豪 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/00 | 分类号： | G09F9/00;B23P21/00;H05K13/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对位机台，以供对位两料件，其包括：一吸附头，以供吸附一第一料件；一光源，设于该吸附头上方，用以投射光线于该第一料件；一支撑平台，位于该吸附头与该第一料件下方，用以在该第一料件与一第二料件对位压合时支撑该第二料件；以及一影像撷取单元，设于该支撑平台下方。本发明克服了现有技术的缺陷，不易产生影像轮廓的变动，因此能减少比对错误率。 | ||
| 搜索关键词： | 对位 机台 | ||
【主权项】：
1.一种对位机台，以供对位两料件，其特征在于，包括：一吸附头，以供吸附一第一料件；一光源，设于该吸附头上方，用以投射光线于该第一料件；一支撑平台，位于该吸附头与该第一料件下方，用以在该第一料件与一第二料件对位压合时支撑该第二料件；以及一影像撷取单元，设于该支撑平台下方。
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