[发明专利]化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法有效
| 申请号： | 200510002654.9 | 申请日： | 2005-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1648191A | 公开（公告）日： | 2005-08-03 |
| 发明（设计）人： | 池田·宪彦;西元·和男;服部·雅幸;川桥·信夫 | 申请（专利权）人： | 捷时雅株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京金信联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 南霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械研磨用水性分散剂，其特征在于：所述化学机械研磨用水性分散剂含有，含二氧化铈的研磨粉粒(A)、阴离子水溶性聚合物(B)以及阳离子表面活性剂(C)；基于100质量份的含二氧化铈的研磨粉粒(A)，阴离子水溶性聚合物(B)的含量为60～600质量份；阳离子表面活性剂(C)的含量对于全部化学机械研磨用水性分散剂为0.1～100ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 水性 分散剂 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨用水性分散剂，其特征在于：所述化学机械研磨用水性分散剂含有，含二氧化铈的研磨粉粒(A)、阴离子水溶性聚合物(B)以及阳离子表面活性剂(C)；基于100质量份的含二氧化铈的研磨粉粒(A)，阴离子水溶性聚合物(B)的含量为60～600质量份；对于全部化学机械研磨用水性分散剂，阳离子表面活性剂(C)的含量为0.1～100ppm。
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