[发明专利]电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 200510002966.X | 申请日： | 2005-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1812010A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 宋巧丽 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01F5/00 | 分类号： | H01F5/00;H01F38/14;H05H1/46;H05H1/50;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑立明 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明所述的电感耦合线圈由内部线圈组与外部线圈组连接而成；内部线圈组和外部线圈其中一个线圈由两个或两个以上的不同直径的线圈并联而成。采用了这种结构的电感耦合等离子体装置减小了电感耦合线圈的电感，从而可以很容易地获得大面积的等离子体和改善大面积工艺中等离子体的均匀性。在线圈的输出端接一个接地电容，使得等离子体的分布在径向和方位角方向也更加均匀。内外平面线圈结构的设计改变了等离子体在反应腔室内部的分布，改善了等离子体在反应腔室内部的分布均匀性，从而使得在晶片表面上各点的刻蚀速率更加相近。即使随着晶片尺寸的增大，该技术方案也能很好地控制从晶片中央到边缘的刻蚀速率和均匀性。提高刻蚀晶片的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 及其 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1、一种电感耦合线圈，其特征在于由内部线圈组与外部线圈组连接而成；内部线圈组和外部线圈其中一个线圈由两个或两个以上的不同直径的线圈并联而成。
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