[发明专利]正四极照明曝光方法及其装置有效
| 申请号： | 200510003375.4 | 申请日： | 2005-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1996146A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | 姚峰英 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹（集团）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种正四极照明的曝光方法，用不变化参数的正四极照明连续扫描两块掩模版，所述两块掩模版的图形分别为图形的纵向线条和横向线条。本发明简化了两次曝光的工作流程，提高两次曝光的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 正四极 照明 曝光 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1、一种正四极照明的曝光方法，其特征在于用不变化参数的正四极照明连续扫描两块掩模版，所述两块掩模版的图形分别为图形的纵向线条和横向线条。
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