[发明专利]光刻设备及器件制造方法

摘要

一种光刻设备包括投射系统和单独可控单元阵列，投射系统配置成将辐射束以子辐射束阵列的形式投射到衬底上，而单独可控单元阵列配置成调制子辐射束以便在衬底上形成所需剂量图案。在时间上由局部曝光阵列组成所需剂量图案，其中至少相邻的局部曝光是以显著不同的时间成像的，并且其中每次局部曝光都由子辐射束之一产生。光刻设备还包括光栅化装置和数据处理装置，光栅化装置设置成将定义所需剂量图案的数据转换成代表图案中对应的点序列所需的剂量的数据序列，而数据处理装置配置成接收数据序列并构成适合于控制单独可控单元阵列的控制信号。

主权项

1.一种光刻设备，它包括：投射系统，它配置成将辐射束以子辐射束阵列的形式投射到衬底上；单独可控单元阵列，它配置成调制所述子辐射束，以便在所述衬底上实际地形成所需剂量图案，在时间上由局部曝光阵列组成所述所需剂量图案，其中至少相邻的局部曝光在显著不同的时间成像并且其中每次局部曝光都是由所述子辐射束之一产生的；光栅化装置，它配置成将定义所述所需剂量图案的数据转换成代表图案中对应的点序列所需的剂量的数据序列；以及数据处理装置，它配置成接收所述数据序列并由所述数据序列构成适合于控制所述单独可控单元阵列的控制信号，其中所述数据处理装置配置成计算每一次局部曝光所需的子辐射束强度以便再现所述所需剂量图案。对于每一次局部曝光，所述计算基于包括所述衬底上围绕所述局部曝光的区域中的所述所需剂量图案的环境信息，并且其中所述数据处理装置包括：存储缓冲区，它配置成存储至少一部分所述环境信息，其中所述环境信息的所述部分包括至少一部分所述数据序列的一部分；以及所需辐射束强度计算装置，它配置成根据由所述存储缓冲区提供的所述环境信息，计算多个相邻的局部曝光的所述所需子辐射束强度。