[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510003549.7 | 申请日： | 2005-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1797208A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | T·尤特迪克;E·R·鲁普斯特拉;L·A·桑德塞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种浸入式光刻装置中的最后元件，其在最靠近衬底的表面上具有粘合在该表面上的层，还包括由与上述层相同的材料所形成的边缘阻碍物，其从该层中远离衬底地延伸出来，以便将最后元件相对于液体隔离开。在一个实施例中，该最后元件通过层和/或边缘阻碍物而连接在装置上，所述层和/或边缘阻碍物可由热膨胀系数比最后元件的热膨胀系数更低的材料制成。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：投影系统，其构造成可将图案化辐射光束投射到衬底上，所述投影系统包括最后元件，其在最靠近所述衬底的表面上具有粘合在所述表面上的层，还包括由与所述层相同的材料所形成的边缘阻碍物，其从所述层中远离所述衬底地延伸出来，以便将所述最后元件相对于液体隔离开；和液体供给系统，其构造成可用液体至少部分地填充所述投影系统的最后元件与衬底之间的空间。
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