[发明专利]电光学装置有效
| 申请号： | 200510003739.9 | 申请日： | 2005-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1638571A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 深濑章夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/14 | 分类号： | H05B33/14;H05B33/12;H05B33/08;H01J1/62;G09G3/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种电光学装置，其是具有第一布线、与所述第一布线基本垂直的第二布线、通过所述第一布线和第二布线选择的像素区域的顶发射型电光学装置，其包括多个所述像素区域，至少一个所述像素区域由下述方式设置：其越过由用于选择该像素区域的所述第一布线和所述第二布线以及分别邻接于该第一布线和第二布线的所述第一布线和所述第二布线包围的单位区域。这样，像素区域面积变更的自由度高，结果，能够调整各个发光元件之间的亮度和寿命，使白平衡的控制变得容易的同时，还能够延长显示装置整体的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 | ||
【主权项】：
1、一种电光学装置，包括第一布线、与所述第一布线基本垂直的第二布线、由所述第一布线和第二布线选择的像素区域，在所述像素区域所包含的发光元件被设置在基板上，并且还包含第一电极、由透明材料构成的第二电极、以及介于第一和第二电极之间的发光层，所述发光层的发光介由第二电极而向与基板相反的方向发射，其特征在于，包括多个所述像素区域；至少一个所述像素区域按越过单位区域的方式设置，所述单元区域由用于选择该像素区域的所述第一布线和所述第二布线、以及分别不同于该第一布线和第二布线且分别与其相邻接的所述第一布线和所述第二布线所包围。
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