[发明专利]具有层叠的节点接触结构的半导体集成电路及其制造方法有效
申请号: | 200510003952.X | 申请日: | 2005-01-12 |
公开(公告)号: | CN1641878A | 公开(公告)日: | 2005-07-20 |
发明(设计)人: | 张在焄;郑舜文;郭根昊;黄炳晙 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L27/11;H01L21/822;H01L21/8244 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 林宇清;谢丽娜 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种包括薄膜晶体管(TFT)的半导体集成电路及制造这种半导体集成电路的方法。该半导体集成电路可以包括在半导体衬底形成的体晶体管和体晶体管上的第一层间绝缘层。下TFT可以在第一层间绝缘层上,以及第二层间绝缘层可以在下TFT上。上TFT可以在第二层间绝缘层上,以及第三层间绝缘层可以在上TFT上。体晶体管的第一杂质区、下TFT的第一杂质区以及上TFT的第一杂质区可以通过穿透第一、第二和第三层间绝缘层的节点栓塞相互电连接。 | ||
搜索关键词: | 具有 层叠 节点 接触 结构 半导体 集成电路 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种集成电路,包括:在半导体衬底处形成的、具有第一和第二杂质区的第一晶体管;第一晶体管上的第一层间绝缘层;在与第一晶体管相对的第一层间绝缘层上、具有第一和第二杂质区的第二晶体管;在与第一层间绝缘层相对的第二晶体管上的第二层间绝缘层;在与第二晶体管相对的第二层间绝缘层上、具有第一和第二杂质区的第三晶体管;在与第二层间绝缘层相对的第三晶体管上的第三层间绝缘层;以及穿透第一、第二和第三层间绝缘层使第一晶体管的第一杂质区、第二晶体管的第一杂质区以及第三晶体管的第一杂质区相互电连接的节点栓塞。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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