[发明专利]具有层叠的节点接触结构的半导体集成电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510003952.X 申请日: 2005-01-12
公开(公告)号: CN1641878A 公开(公告)日: 2005-07-20
发明(设计)人: 张在焄;郑舜文;郭根昊;黄炳晙 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L27/11;H01L21/822;H01L21/8244
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 林宇清;谢丽娜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种包括薄膜晶体管(TFT)的半导体集成电路及制造这种半导体集成电路的方法。该半导体集成电路可以包括在半导体衬底形成的体晶体管和体晶体管上的第一层间绝缘层。下TFT可以在第一层间绝缘层上,以及第二层间绝缘层可以在下TFT上。上TFT可以在第二层间绝缘层上,以及第三层间绝缘层可以在上TFT上。体晶体管的第一杂质区、下TFT的第一杂质区以及上TFT的第一杂质区可以通过穿透第一、第二和第三层间绝缘层的节点栓塞相互电连接。
搜索关键词: 具有 层叠 节点 接触 结构 半导体 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种集成电路,包括:在半导体衬底处形成的、具有第一和第二杂质区的第一晶体管;第一晶体管上的第一层间绝缘层;在与第一晶体管相对的第一层间绝缘层上、具有第一和第二杂质区的第二晶体管;在与第一层间绝缘层相对的第二晶体管上的第二层间绝缘层;在与第二晶体管相对的第二层间绝缘层上、具有第一和第二杂质区的第三晶体管;在与第二层间绝缘层相对的第三晶体管上的第三层间绝缘层;以及穿透第一、第二和第三层间绝缘层使第一晶体管的第一杂质区、第二晶体管的第一杂质区以及第三晶体管的第一杂质区相互电连接的节点栓塞。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510003952.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top