[发明专利]相位差层叠层体、光学元件及其热处理方法有效

专利信息
申请号: 200510004150.0 申请日: 2002-11-07
公开(公告)号: CN1651941A 公开(公告)日: 2005-08-10
发明(设计)人: 鹿岛启二 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/133
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的一种相位差层叠层体,其中含有衬底材料和在所述衬底材料上由具有向列相规律性或近晶相规律性或胆甾相规律性的聚合性液晶材料固化而成的相位差层,其特征在于:所述相位差层叠层体以预定温度进行热处理,如设所述热处理后的所述相位差层的相差值为Ra,对所述相位差层叠层体再次以所述热处理温度加热60分钟后的所述相位差层的相差值为Rb,以(Ra-Rb)/Ra定义的所述相位差层的相差值减少率不大于5%。
搜索关键词: 相位差 层叠 光学 元件 及其 热处理 方法
【主权项】:
1、一种相位差层叠层体,其中含有衬底材料和在所述衬底材料上由具有向列相规律性或近晶相规律性或胆甾相规律性的聚合性液晶材料固化而成的相位差层,其特征在于:所述相位差层叠层体以预定温度进行热处理,如设所述热处理后的所述相位差层的相差值为Ra,对所述相位差层叠层体再次以所述热处理温度加热60分钟后的所述相位差层的相差值为Rb,以(Ra-Rb)/Ra定义的所述相位差层的相差值减少率不大于5%。
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