[发明专利]无掩模光学写入器无效

专利信息
申请号: 200510004345.5 申请日: 2005-01-13
公开(公告)号: CN1661473A 公开(公告)日: 2005-08-31
发明(设计)人: 哈里·修厄尔 申请(专利权)人: ASML控股股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于微影术的无掩模图案产生系统包含:一光源,其产生一光束、一可编程图案产生器,其根据一控制信号输入以产生一来自该光束的图案影像、及一控制器,用以根据提供至控制器的图案信息以提供控制信号输入至可编程图案产生器。控制信号输入指示可编程图案产生器以设定相应于一像素阵列中的各个像素的各个电压电平,其中每一所述各个电压电平相应于一指定给一特定各个像素的灰度级别。设定各个电压电平提供所得图案影像光束的一相位偏移,以容许可编程图案产生器作用为一移相掩模。此无掩模图案写入系统作用为一控制图案影像的光阀,以像素接像素的基础,以供直接写入图案的目的。
搜索关键词: 无掩模 光学 写入
【主权项】:
1.一种无掩模图案产生系统,其包含:一光源,其产生一光束;一可编程图案产生器,其根据一控制信号输入以产生一来自该光束的图案影像,该控制信号输入指示该可编程图案产生器以设定相应于一像素阵列中的各个像素的各个电压电平,其中每一所述各个电压电平相应于指定给所述各个像素的一特定像素的灰度级别;及一控制器,其根据提供至该控制器的图案信息以提供该控制信号输入至该可编程图案产生器。
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