[发明专利]化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法无效
| 申请号： | 200510004698.5 | 申请日： | 2005-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1648771A | 公开（公告）日： | 2005-08-03 |
| 发明（设计）人： | 远藤政孝;笹子胜 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在基板上形成含有水溶性聚合物的化学增幅型抗蚀剂组成的抗蚀剂膜。其中使用水溶性聚合物根据气体透过性比化学增幅型抗蚀剂小的材料。进而通过掩模对抗蚀剂膜选择性照射曝光光线进行图案曝光，然后通过对进行了图案曝光的抗蚀剂膜进行显影，得到由抗蚀剂膜以良好形状被微细化的抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型抗蚀剂，含有水溶性聚合物，其特征在于，其中所述水溶性聚合物的气体透过性，比不含所述水溶性聚合物状态下的所述化学增幅型抗蚀剂小。
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