[发明专利]一种利用剪切高碰撞技术制备高活性纳米级4A沸石的方法无效

专利信息
申请号: 200510004867.5 申请日: 2005-02-03
公开(公告)号: CN1669928A 公开(公告)日: 2005-09-21
发明(设计)人: 孙晓东;孙双虎;张福玲 申请(专利权)人: 孙双虎;孙晓东;张福玲
主分类号: C01B39/02 分类号: C01B39/02;C01B39/14;C11D3/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 041000山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明涉及以各种各种铝硅酸盐材料为原料,通过铝酸钠的配比,调整其硅铝比,然后利用NaOH溶液使其胶化,接着采用剪切高碰撞水化破碎,使其粒度大大减小,最后经过晶化、干燥,制得纳米级4A沸石。通过这种工艺制备的4A沸石粒度小、比表面积大、活性高、吸附能力强,应用前景广泛。
搜索关键词: 一种 利用 剪切 碰撞 技术 制备 活性 纳米 方法
【主权项】:
1.一种利用剪切高碰撞技术制备高活性纳米级4A沸石的方法,以各种铝硅酸盐材料为原料,利用剪切高碰撞技术。
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