[发明专利]主被动调Q单纵模激光器无效

专利信息
申请号: 200510005309.0 申请日: 2005-02-02
公开(公告)号: CN1645691A 公开(公告)日: 2005-07-27
发明(设计)人: 许祖彦;王学军 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01S3/127 分类号: H01S3/127;H01S3/08;H01S3/0941;H01S3/16;H01S3/042;H01S3/00
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人: 尹振启
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种主被动调Q固体单纵模激光器,该激光器包括泵浦源、谐振腔,泵浦源与谐振腔之间设置一组耦合装置,耦合装置与泵浦源之间由光纤连接,谐振腔包括镀膜的前腔镜和后腔镜,前、后腔镜之间设置双掺晶体和主动Q开关,双掺晶体上设置冷却装置。本发明的优点在于利用主动Q开关控制被动Q开关,获得预激光脉冲,同时利用饱和吸收晶体作纵模选择器,使得固体单纵模激光器可以工作在较高泵浦功率下,因而可以获得高稳定重复频率,高平均输出功率,高峰值功率,窄脉宽,高偏振度的调Q单纵模激光。
搜索关键词: 被动 单纵模 激光器
【主权项】:
1.一种主被动调Q固体单纵模激光器,其特征在于,该激光器包括泵浦源、谐振腔,所述谐振腔包括镀膜的前腔镜和后腔镜,所述前、后腔镜之间设置至少一段固体激光基质材料和至少一个主动Q开关,所述基质材料中,至少包含能够使所述基质材料产生振荡激光的作为激活离子的第一种掺杂元素、至少包含不同于所述第一种掺杂元素的能够在所述基质材料中对所述振荡激光产生饱和吸收的作为饱和吸收离子的第二种掺杂元素,所述饱和吸收具有对所述振荡激光在低强度时高吸收和高强度时低吸收的特性,所述含有具有饱和吸收特性的第二种掺杂元素的基质材料作为所述激光器的被动Q开关,所述泵浦源为所述激光器提供泵浦光,使得在所述基质材料中的所述第一种掺杂元素粒子数反转从而在所述激光器中产生所述振荡激光,所述泵浦光具有足够的能量使得在所述基质材料中产生所述振荡激光,所述振荡激光漂白所述第二种掺杂元素从而降低了所述第二种掺杂元素对所述振荡激光的吸收,因而进一步加强所述振荡激光到一个更高的强度,所述振荡激光随着所述第一种掺杂元素反转粒子数的消耗而熄灭。
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