[发明专利]一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法无效
| 申请号： | 200510005742.4 | 申请日： | 2005-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN1811598A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 陈杰智;张建宏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 段成云 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及范围是微细加工技术领域，特别是一种版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法。曝光数据文件由正式曝光版图和测试版图组成；将测试版图在曝光过程中设计一组变剂量，显影时间可以根据测试版图的显影情况而灵活控制。在正式曝光版图中增加设计一组不同剂量的图形，通过观察这些图形的显影情况来确定正确的显影时间。所述的测试图形的版图是根据正式曝光版图来设计的，具有很大的灵活性。这种设计方案简单易行，尽可能的降低了偶然因素对显影结果的影响，使显影后图形与设计图形保持很好的一致性。可广泛用于电子束曝光中的版图设计。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 版图 设计 灵活 控制 电子束光刻 显影 时间 方法 | ||
【主权项】：
1.一种控制电子束光刻显影时间的方法，其特征在于，曝光数据文件由正式曝光版图和测试版图组成；将测试版图在曝光过程中设计成一组变剂量，显影时间根据测试版图的显影情况而灵活控制。
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