[发明专利]磁记录头和制造方法无效
| 申请号： | 200510006133.0 | 申请日： | 2005-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN1655237A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | 木村久志;芳田伸雄;布川功;江藤公俊 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/127 | 分类号： | G11B5/127;G11B5/31 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 杨林森;谷惠敏 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供薄膜磁记录头及其制造方法，其能够减少主极的磁道限制部分的圆形部分并具有极好的磁道宽度精度。主极在下述三种工艺中蚀刻：(1)将离子束以50°±20°的角度注入基底，同时沿离子束从介质到空气承载表面取向的参考方向，在±(30至150°)的范围内水平地振动该基底的蚀刻工艺；(2)将离子束以60°±20°的角度注入基底，同时围绕90°至135°的预定角度沿离子束从介质到空气承载表面的取向的方向振动该基底的蚀刻工艺；(3)离子束以60°±20°的角度注入基底，同时围绕－90°至－135°的预定角沿离子束从介质到空气承载表面的取向的方向，在±45°预定角度的范围内水平地振动基底的蚀刻工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录头，包括：基底；设置在所述基底上的主极；以及设置在所述基底上并电连接于所述主极的返回极；其中所述主极包括：柱状的磁道限制部分，其从空气承载表面大致垂直地延伸；和磁通量引入部分，其连接于所述磁道限制部分并具有相交的截面面积，该截面面积平行于所述空气承载表面，并且随着所述引入部分远离所述空气承载表面该截面面积增加；其中所述主极在所述空气承载表面上形成这样的形状，使得其比较接近所述基底的下侧变得比其远离所述基底的上侧短；并且其中，如果在所述空气承载表面上所述磁道限制部分的所述上侧和其相邻侧之间产生的内角定义为α，并且在靠近连接到所述磁道限制部分的部分位置，在平行于所述空气承载表面的所述磁通量引入部分的截面处的所述上侧和其相邻侧之间形成的内角定义为γ，那么α和γ之间的关系是γ＞α。
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