[发明专利]微机电光学显示元件的制造方法有效
| 申请号： | 200510006344.4 | 申请日： | 2005-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN1651332A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李嘉盛;林汉涂;翁嘉璠 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种微机电光学显示元件的制造方法。形成一牺牲层于一基板上方。形成多个支撑柱穿越牺牲层而连接基板。形成一反射层于牺牲层与支撑柱上。形成一弹性层于反射层上。形成一光致抗蚀剂层于部分弹性层上。以光致抗蚀剂层为掩模，利用湿蚀刻去除部分弹性层而得到一图案化的弹性层，并且蚀刻停止在反射层上。去除光致抗蚀剂层。以图案化的弹性层为掩模，利用干蚀刻去除部分反射层而得到一图案化的反射层，其中图案化的弹性层与反射层构成一机械层。去除牺牲层使得机械层被支撑于支撑柱上。 | ||
| 搜索关键词： | 微机 光学 显示 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微机电光学显示元件的制造方法，其步骤包括：形成一光学堆叠层于一基板上；形成一牺牲层于该光学堆叠层上；图案化该牺牲层而形成多个穿孔于该牺牲层内；填充一支撑物于该些穿孔中而形成多个支撑柱；形成一反射层于该牺牲层与该些支撑柱上；形成一弹性层于该反射层上；形成一光致抗蚀剂层于部分该弹性层上；以该光致抗蚀剂层为掩模，利用湿蚀刻工艺去除部分该弹性层而得到一图案化的弹性层，并且蚀刻停止在该反射层上；去除该光致抗蚀剂层；以该图案化的弹性层为掩模，利用干蚀刻工艺去除部分该反射层而得到一图案化的反射层，其中该些图案化的弹性层与反射层构成一机械层；以及去除该牺牲层而使该机械层被支撑于该些支撑柱上。
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