[发明专利]喷嘴分布无效
| 申请号： | 200510006364.1 | 申请日： | 2005-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN1647930A | 公开（公告）日： | 2005-08-03 |
| 发明（设计）人： | D·凯勒;R·A·阿斯克兰德;S·斯泰因费尔德;W·理查德 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/01 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种包括芯片(42a，42b，42c)的流体喷射装置，该芯片具有多个喷嘴(54)，喷嘴根据预定的所需分布(100，102，104)不同地构造。该流体喷射装置还包括一个控制器(12，12′)，其被构造成通过选择性地激发所选的芯片(42a，42b，42c)的喷嘴(54)从而设定芯片(42a，42b，42c)的平均微滴体积。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 分布 | ||
【主权项】：
1、一种流体喷射装置，其包括：芯片(42a，42b，42c)，其包括根据预定的所需分布(100，102，104)不同地构造的多个喷嘴(54)；控制器(12，12’)，其被构造成通过选择性地激发所选的喷嘴(54)从而设定由多个喷嘴(54)提供的平均微滴体积。
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