[发明专利]液晶显示装置有效
申请号: | 200510006489.4 | 申请日: | 2005-02-03 |
公开(公告)号: | CN1632680A | 公开(公告)日: | 2005-06-29 |
发明(设计)人: | 丁进国 | 申请(专利权)人: | 广辉电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;G02F1/133 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种液晶显示装置,包括:第一N型LDD(LightlyDoped Drain;LDD)及第二N型LDD;其中,以一个栅电极为掩膜,通过倾斜注入的方式而形成该些N型LDD,且第一N型LDD及第二N型LDD分别与源极/漏极区相接。上述液晶显示装置更包括:第三P型LDD及第四P型LDD;同样地,以一个栅电极为掩膜,通过倾斜注入的方式而形成该些P型LDD。其中,第三P型LDD及第四P型LDD分别包围该源极/漏极区以及第一N型LDD和第二N型LDD。 | ||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 | ||
【主权项】:
1、一种液晶显示装置,包括:一个基板;一个缓冲层置于该基板上; 一个半导体层置于该缓冲层上;一个栅极绝缘层置于该半导体层上;一个栅电极置于该栅极绝缘层上;一个源极/漏极区,其形成方法是以该栅电极为掩膜,在该半导体层内注入第一掺杂物;第一低掺杂区,其形成方法是以该栅电极为掩膜,在第一角度的方向注入第二掺杂物到该半导体层内,其中该第一低掺杂区与该源极/漏极区的部份重叠;以及第二低掺杂区,其形成方法是以该栅电极为掩膜,在第二角度的方向注入第三掺杂物到该半导体层内,其中该第二低掺杂区与该源极/漏极区的部份重叠。
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