[发明专利]化学增幅型阴图PS版用感光组合物以及由此制备的化学增幅型阴图PS版无效

专利信息
申请号: 200510007283.3 申请日: 2005-02-06
公开(公告)号: CN1815364A 公开(公告)日: 2006-08-09
发明(设计)人: 余尚先;杨金瑞;顾江楠;张改莲;蒋翔宇;覃建加;钟克西;杨琰 申请(专利权)人: 北京师范大学;广西玉林金龙PS版印刷材料有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;B41C1/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 刘金辉;林柏楠
地址: 100875北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种化学增幅型阴图PS版感光组合物,包含:a)45-90%重量的成膜树脂;b)1-20%重量的交联剂;c)0.1-10%重量的产酸源;d)0.1-5%重量的背景染料;e)1-20%重量的助交联剂或表面抗磨剂;和f)使所述组合物的固含量为5-50%重量的溶剂,其中所述重量百分数基于所述组合物的固体总质量。本发明还提供了一种使用上述感光组合物制备的阴图PS版。用本发明感光组合物所涂制的阴图PS版具有感度高、分辨率好、耐印力强、显影宽容度大以及可以使用传统阳图PS版显影液进行显影等一系列优点。
搜索关键词: 化学 增幅 型阴图 ps 感光 组合 以及 由此 制备
【主权项】:
1.一种化学增幅型阴图PS版感光组合物,包含如下组分:a)45-90%重量,优选50-80%重量的成膜树脂;b)1-20%重量,优选5-15%重量的交联剂;c)0.1-10%重量,优选0.5-5%重量的光产酸源;d)0.1-5%重量,优选0.5-2%重量的背景染料;e)1-20%重量,优选3-10%重量的助交联剂或表面抗磨剂;和f)使所述组合物的固含量为5-50%重量,优选10-40%重量的溶剂;其中所述重量百分数基于所述组合物的固体总质量。
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