[发明专利]基板制造方法和电路板有效

专利信息
申请号: 200510007362.4 申请日: 2005-02-04
公开(公告)号: CN1747630A 公开(公告)日: 2006-03-15
发明(设计)人: 小出正辉 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K3/00;H05K3/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 基板制造方法和电路板。层叠步骤包括在第一步骤中形成的导电图案上层叠第二绝缘层、使除了所需区域以外的所层叠的第二绝缘层的表面粗糙化、和至少在第二绝缘层表面的所需区域上形成导电层的第二步骤,加工步骤包括去除所述区域的比在层叠步骤中得到的基板上的第二绝缘层高的部分的去除步骤,和露出所述区域中与第二绝缘层的下侧相邻的导电图案的一部分的露出步骤。
搜索关键词: 制造 方法 电路板
【主权项】:
1.一种基板制造方法,包括得到具有交替层叠的绝缘层和导电图案的多层基板的层叠步骤,和加工在所述层叠步骤得到的基板的加工步骤,其中所述层叠步骤包括:第一步骤,包括作为一次加工过程来形成第一绝缘层、将所形成的第一绝缘层的整个表面粗糙化和在第一绝缘层的粗糙化表面上形成所需的导电图案,或者进一步包括在所形成的导电图案上形成下一个第一绝缘层,从而多于一次地重复该加工过程,第二步骤,在所述第一步骤最后形成的导电图案上层叠第二绝缘层、使所层叠的第二绝缘层的除所需区域之外的表面粗糙化并至少在所述第二绝缘层表面的所述所需区域上形成导电层,和第三步骤,包括作为一次加工过程来在所述第二步骤形成的导电层上形成第三绝缘层、使形成的第三绝缘层的整个表面粗糙化和在第三绝缘层的粗糙化表面上形成所需的导电图案,或者进一步包括在所形成的导电图案上形成下一个第三绝缘层,从而多于一次地重复该加工过程,以及所述加工步骤包括:去除步骤,去除所述区域的比在所述层叠步骤得到的基板上的所述第二绝缘层高的部分,和露出步骤,露出所述区域中与所述第二绝缘层的下侧相邻的导电图案的一部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社,未经富士通株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510007362.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top