[发明专利]光干涉式彩色显示面板的制造方法无效
申请号: | 200510007688.7 | 申请日: | 2005-02-07 |
公开(公告)号: | CN1818994A | 公开(公告)日: | 2006-08-16 |
发明(设计)人: | 林文坚 | 申请(专利权)人: | 高通MEMS科技公司 |
主分类号: | G09F9/00 | 分类号: | G09F9/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王允方;刘国伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明是有关于一种光干涉式彩色显示面板的制造方法,首先是在一基板上形成一第一电极结构。之后在第一电极结构上定义出至少一第一区域、第二区域与第三区域。接着,在第一区域、第二区域与第三区域内的第一电极结构上形成一第一牺牲层,在第二区域与第三区域内的第一牺牲层上形成一第二牺牲层,并在第三区域内的第二牺牲层上形成一第三牺牲层,而对于相同或不同的蚀刻液而言,各牺牲层的被蚀刻速率皆不相同。接着,形成一图案化支撑层在第一电极结构上,随后形成一第二电极层并移除所有的牺牲层,以形成多个空气间隙。因此,由于各牺牲层的被蚀刻速率不相同,故可有效控制所形成的空气间隙。 | ||
搜索关键词: | 干涉 彩色 显示 面板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种光干涉式彩色显示面板的制造方法,其特征在于其包括以下步骤:提供一基板,在该基板上形成一第一电极结构;在该第一电极结构上定义出一第一区域、一第二区域与一第三区域;在该第一区域、该第二区域与该第三区域内的该第一电极结构上形成一第一牺牲层;在该第二区域与该第三区域内的该第一牺牲层上形成一第二牺牲层;在该第三区域内的该第二牺牲层上形成一第三牺牲层,而该第一牺牲层、第二牺牲层与第三牺牲层的被蚀刻速率皆不相同;在该第一电极结构上形成一图案化支撑层;形成一第二电极层在该第一区域的该第一牺牲层、该第二区域的该第二牺牲层、该第三区域的该第三牺牲层,以及该图案化支撑层的部分区域上;以及移除该第一牺牲层、该第二牺牲层与该第三牺牲层,以在该第一电极结构与该第二电极层之间形成多数个空气间隙。
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