[发明专利]发光二极管及其制作方法有效
| 申请号： | 200510008075.5 | 申请日： | 2005-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN1819282A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 蔡宗良;温伟值;江昌翰;张智松 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光二极管及其制作方法。形成发光二极管多晶结构于基材上，蚀刻此发光二极管多晶结构，形成孔洞，之后将透明介电材料填入孔洞。利用黏着层，将导电基材与发光二极管多晶结构贴合，并接着移除基材。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种发光二极管的制作方法，其特征在于，包括：提供基材；形成发光二极管多晶结构于所述基材上；蚀刻所述发光二极管多晶结构，以形成孔洞；形成透明介电层于所述孔洞中；接合导电基材与该发光二极管多晶结构；以及移除所述基材。
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