[发明专利]用于制作隔离壁的曝光方法无效
| 申请号： | 200510008087.8 | 申请日： | 2005-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN1821880A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 郭建忠 | 申请（专利权）人： | 胜华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于制作隔离壁的曝光方法，是于一基板表面涂布正型光阻以形成一光阻膜，再于光阻膜上方设置一光罩，接着，以紫外线做为曝光射线，且紫外线分别以与光罩表面夹一预定角度的方式，先后进行第一次曝光与第二次暴光，以便于以后的显影处理后，可于基板上形成倒梯形的隔离壁。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 隔离 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作隔离壁的曝光方法，其特征在于，包含下列步骤：涂布一正型光阻于一基板表面；于该正型光阻上方设置一光罩，该光罩具有一可透光区与一不可透光区；使一第一射线以与该光罩表面夹一θ1角度的方式照射该光罩，该第一射线经过该可透光区并照射于该正型光阻；使一第二射线以与该光罩表面夹一θ2角度的方式照射该光罩，该第二射线经过该可透光区并照射于该正型光阻。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜华科技股份有限公司，未经胜华科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510008087.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：菊苣试管苗的高效快繁方法
- 下一篇：用于大棚蔬菜种植的水性负离子粉
