[发明专利]离子束辐照装置和用于该装置的绝缘隔离物无效
| 申请号： | 200510008459.7 | 申请日： | 2005-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1661762A | 公开（公告）日： | 2005-08-31 |
| 发明（设计）人： | 伊东克己;前川和也;武内悦雄;矢岛信男;佐藤顺一 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/30;H01J27/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 设置在离子束辐照装置的栅格之间的绝缘隔离物的替换频率将被减小。另外，在离子束辐照装置中的多个栅格的间隔将被保持恒定。为了得到这些目的，在用于保持栅格之间绝缘的所谓绝缘隔离物中，在绝缘隔离物的侧面的中心部分上沿着其整个周围提供具有溅射材料很难附着的底部的沟槽部分。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 辐照 装置 用于 绝缘 隔离 | ||
【主权项】：
1.一种离子束辐照装置，包括：等离子体产生室，在其内部产生等离子体；处理室，与所述等离子体产生室连接；多个栅格，设置在所述等离子体产生室和所述处理室之间，用于从所述等离子体产生室中抽取所述等离子体中的离子到所述处理室，每个所述栅格具有多个小孔；以及绝缘隔离物，设置在所述栅格之间，用于防止所述栅格彼此电接触；其中沿着所述绝缘隔离物的整个周围，在所述绝缘隔离物的与邻接所述栅格的表面不同的表面上形成沟槽部分，所述沟槽部分在沿着所述绝缘隔离物的轴线方向的横截面中表现为在与所述离子束抽取方向不同的方向上形成的凹陷。
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