[发明专利]改善色偏的光学膜及其形成方法无效
| 申请号： | 200510008702.5 | 申请日： | 2005-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1825180A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | 李东龙;吴龙海 | 申请（专利权）人： | 力特光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种改善色偏的光学膜及其形成方法。该光学膜包括：一基材以及一材料层；该材料层形成于该基材上包括一双折射性材料以及可吸收一定波长范围的光的染料。该光学膜的形成方法包括以下步骤：将可吸收一定波长范围的染料加入至具有双折射性材料的溶剂中，以形成一波长吸收剂；将该波长吸收剂涂布于一基材上以形成一光学膜；使该光学膜中的该溶剂挥发；以及将该光学膜硬化。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 光学 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种改善色偏的光学膜，包括：一基材；以及一材料层，其形成于该基材上，该材料层包括双折射性材料以及可吸收一定波长范围的染料。
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