[发明专利]磁记录介质的制造方法无效
| 申请号： | 200510009339.9 | 申请日： | 2005-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1661690A | 公开（公告）日： | 2005-08-31 |
| 发明（设计）人： | 服部一博;大川秀一;诹访孝裕;日比干晴 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;潘培坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质的制造方法，可高效率制造具有以凹凸图案形成的记录层、表面十分平坦、记录再现精度良好的磁记录介质。包括：非磁性材料填充工序(S104)，通过在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层上成膜非磁性材料而填充上述凹凸图案的凹部；平坦化工序(S106)，通过干蚀刻去除记录层上剩余的非磁性材料而使表面平坦化，进行加工条件的设定，使得相对于该平坦化工序的干蚀刻的非磁性材料的蚀刻率和记录层的蚀刻率实质上相等。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，包括：非磁性材料填充工序，通过在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层上成膜非磁性材料而填充上述凹凸图案的凹部；平坦化工序，通过干蚀刻去除上述记录层上剩余的上述非磁性材料而使表面平坦化，进行加工条件的设定，使得相对于该平坦化工序的干蚀刻的上述非磁性材料的蚀刻率和上述记录层的蚀刻率实质上相等。
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